半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国astm纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18mω.cm、15mω.cm、10mω.cm、2mω.cm、0.5mω.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。高纯水设备是用于满足各行业需求制取纯水的设备，多用于医药、化学化工、半导体行业，也都由全不锈钢材质组合而成，采用反渗透，edi等新工艺，比较有针对性地设计出成套高纯水处理工艺，以满足客户高纯水制取的用水要求。

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